本站音书，凭证天眼查APP数据败露京东方Ａ（000725）新取得一项发明专利授权，专利名为“败露基板过甚制作关节、败露安设”，专利恳求号为CN202011155134.2，授权日为2024年11月22日。

专利概要：本发明提供了一种败露基板过甚制作关节、败露安设，属于败露时间畛域。其中，败露基板，包括位于衬底基板第一侧的薄膜晶体管阵列层和阵列排布的多个发光单位，沿辩认所述衬底基板的标的，所述发光单位轮番包括透光阳极、发光层和透光阴极；所述败露基板还包括：位于所述透光阳极朝向所述衬底基板一侧的光学结构，所述光学结构大意反射第一波段的光，透射所述第一波段以外的光，所述第一波段为所述发光层发出的晴朗的波段。本发明的时间决策大意改善败露安设的败露成果。

本年以来京东方Ａ新取得专利授权2913个，较旧年同时减少了1.75%。汇聚公司2024年中报财务数据，本年上半年公司在研发方面参加了58.06亿元，同比增10.24%。

数据起原：天眼查APP

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